Методика створення літографічних масок з допомогою скануючого зондового мікроскопа

Abstract

У даній роботі проведено аналіз методик і способів скануючої зондової літографії для формування літографічних масок для подальшого виготовлення наночастинок з різним аспектним співвідношенням, а також металевих нанорозмірних дротів як окремо розташованих, так і з масивними контактами з одного або різних металів. Встановлено, що методика точкового індентування з включеним зворотним зв’язком є найбільш оптимальною при створення літографічної маски для формування круглих наночастинок при товщині плівки поліметилметакрилату менше 100 нм з використанням спеціальних алмазних зондів. При більш товстих плівках полімеру форма одержуваної маски спотворюється, внаслідок конструктивних особливостей приладу. При створенні прямокутних частинок найбільш оптимальною є методика багаторазового сканування однієї області в контактному режимі.