Факультет робототехніки та штучного інтелекту
Постійне посилання на фондhttps://repository.lntu.edu.ua/handle/123456789/3434
Переглянути
2 результатів
Результати пошуку
Item type:Матеріали конференцій, Методика створення літографічних масок з допомогою скануючого зондового мікроскопа(Луцьк: ЛНТУ, 2023) Денисюк, Віктор Юрійович; Яблонський, Віталій ВалентиновичУ даній роботі проведено аналіз методик і способів скануючої зондової літографії для формування літографічних масок для подальшого виготовлення наночастинок з різним аспектним співвідношенням, а також металевих нанорозмірних дротів як окремо розташованих, так і з масивними контактами з одного або різних металів. Встановлено, що методика точкового індентування з включеним зворотним зв’язком є найбільш оптимальною при створення літографічної маски для формування круглих наночастинок при товщині плівки поліметилметакрилату менше 100 нм з використанням спеціальних алмазних зондів. При більш товстих плівках полімеру форма одержуваної маски спотворюється, внаслідок конструктивних особливостей приладу. При створенні прямокутних частинок найбільш оптимальною є методика багаторазового сканування однієї області в контактному режимі.Item type:Матеріали конференцій, Аналіз методик скануючої зондової літографії для отримання масок в полімерних плівках поліметилметакрилату(Луцьк: Вежа-Друк, 2023) Денисюк, Віктор Юрійович; Яблонський, Віталій Валентинович; Черняк, Софія ОлександрівнаПроведено аналіз методик і способів скануючої зондової літографії для формування літографічних масок для подальшого виготовлення наночастинок з різним аспектним співвідношенням, а також металевих нанорозмірних дротів як окремо розташованих, так і з масивними контактами з одного або різних металів. Встановлено, що методика точкового індентування з включеним зворотним зв’язком є найбільш оптимальною при створення літографічної маски для формування круглих наночастинок при товщині плівки поліметилметакрилату менше 100 нм з використанням спеціальних алмазних зондів. При більш товстих плівках полімеру форма одержуваної маски спотворюється, внаслідок конструктивних особливостей приладу.